高致密度：密度可达99.95%
高均匀性，使用过程中每一层均匀一致
高纯度乃至超高纯度的金属材料是生产高纯溅射靶材的基础。以半导体芯片用溅射靶材为例，若溅射靶材的杂质含量过高，会导致形成的薄膜无法达到所要求的电性能，并且在溅射过程中易在晶圆上形成微粒，导致电路短路或损坏，严重影响薄膜的性能，进而影响芯片的质量及产量。
周
技术优势
全球首创，自主研发HTHP-CVD提纯技术，突破传统工艺的瓶颈
海朴高纯钨
Hppm High-Purity Tungsten
%
%
制造周期短
高纯度：纯度达到8N
海朴高纯钨靶坯料具有超高纯度、高致密度、高均匀性，可保障晶圆良品率
海朴化学气相沉积技术生产钨靶坯（CVD W）与传统粉末冶金工艺生产钨靶坯（PM W）对比，生产周期短，但产品纯度、致密度更高，且在实际运用中表现稳定良好。
海朴其他高纯钨产品：
离子注入机钨部件 高纯钨发热体
