磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是制备溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。简而言之就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被消耗的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜，这种被消耗的材料就叫溅射靶材。作为一项已经发展的较为成熟的技术，磁控溅射已经被应用于许多领域，相比于蒸发镀膜方式，其在很多方面有相当明显的优势，各种类型的溅射靶材无论在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。